德阳C50高强抹灰砂浆——工厂##股份有限公司张经理：135038041
CGM无收缩灌浆料施工工艺：

1． 基础清扫设备基础表面，不得有碎石、浮浆、灰尘、油污和脱模剂等杂物。灌浆前24h，设备基础表面应充分湿润。灌浆前1h，应吸干积水。

优点：1）对内侧墙片和保温材料形成有效的保护，对保温材料的选材要求不高，聚乙、玻璃棉以及脲醛现场浇注材料等均可使用；对施工季节和施工条件的要求不十分高，不影响冬期施工。在黑龙江、内蒙古、甘肃北部等严寒地区曾经得到一定的应用。缺点：1）在非严寒地区，此类墙体与传统墙体相比尚偏厚；内、外侧墙片之间需有连接件连接，构造较传统墙体复杂；外围护结构的热桥较多。在地震区，建筑中圈梁和构造柱的设置，热桥更多，保温材料的效率仍然得不到充分的发挥。

2． 确定灌浆方式根据设备机座的实际情况，选择相应的灌浆方式，可采用"自重法灌浆"、高位漏斗法灌浆"或"压力法灌浆"进行灌浆，以确保浆料能充分填充各个角落。

3． 支模根据确定的灌浆方式和灌浆施工图支设模板，模板标高应高出设备底座上表面 至少50mm，模板必须支设严密、稳固，以防松动、漏浆。

4． 灌浆料的搅拌按灌浆料重量的13%-17%的加水量加水搅拌，水温以5～40℃为宜。采用机械搅拌时间一般为1～2分钟；采用人工搅拌时，宜先加入2/3的用水量搅拌2分钟，其后加入剩余用水量继续搅拌至均匀。

德阳C50高强抹灰砂浆——工厂##股份有限公司
压机系统引进总压力1T、激进力8T的真空巨力压机，反复繁琐的工艺，确保石英石的高密度和强硬度，为产品的防刮耐磨、防断裂抗冲击性能打下充分的基础。抛光系统抛光系统采用新型专利抛光设备，单组抛光设备配备34个磨头，不仅能够提升抛光工艺的效率，降低成本，更确保了石英石产品达到高光泽度，及表面无损、无刮痕、光滑、耐污耐渍的卓越品质。此外，125m3的沉水池，确保抛光等工业用水重复利用，绝不外排。
5. 灌浆

（1）灌浆浆料应从一侧灌入，直至另一侧溢出为止，以利于排出设备机座与混凝土基础之间的空气，使灌浆充实，不得从四侧同时进行灌浆。

（2）在灌浆过程中不宜振捣，必要时可用竹板条等进行拉动导流。

（3）在灌浆施工过程中直至脱模前，应避免灌浆层受到振动和碰撞，以免损坏未结硬的灌浆层。

德阳C50高强抹灰砂浆——工厂##股份有限公司
石材拼画的装饰效果石材拼画是壁画的一种新的形式，它与建筑空间相关，与建筑环境相联，共画面是固定、 性的。石材拼画的构思前提是必须考虑空间明度环境、色彩环境、质地环境、画的外部环境，以及拼画所处的建筑位置。如果是在厅堂、礼堂中心的主饰面，应以淡色为基调，使用黑白色、深与淡明色花纹(如彩花)的板材，以层次清晰、留白的手法拼成一幅淡雅的“山水水墨花纹”或“风景花纹”类的拼画图案，它不但美化了空间，又保持了墙面的二维件和空间的整体效果，显得高雅华贵，并能增加空间的深度感和亲切感。

6、养护1）灌浆完毕后30分钟内,应立即喷洒养护剂或覆盖塑料薄膜并加盖岩棉被等进行养护,或在灌浆层终凝后立即洒水保湿养护。2)季施工时,养护措施还应符合现行《钢筋混凝土工程施工验收规范》的有关规定。

CGM340灌浆料使用说明：

1、需灌浆的基面要粉尘、油污和其它污垢等不利于粘结的物质，基面应用清水湿润至饱和，但施工时不应留有明水。

2、严格按产品出厂合格证上的用水量加水搅拌,搅拌时间为4-5min。应在加水后30分钟内用完。

仿石材瓷砖更环保美观由于天然石材取自于天然，四季的气候变化很容易风化腐蚀其表面的保护膜，这样它本身含有的放射性元素汞就会释放出来，对人体造成一定危害。笔者了解到，虽然一些商家称产品是经过打蜡密封的天然石材，能将放射性物质密封在里面而消除放射性污染。但是殊不知，这种打蜡密封的过程，首先不能完全解决放射性污染，同时打蜡密封的过程还可能带来其他的污染。相比天然石材的辐射污染，仿石材瓷砖不仅没有放射性，而且还避免了其色差强度不均的缺点。

3、浇注完毕后应加塑料薄膜覆盖，12小时内严禁挠动相关部件。

4、将搅拌均匀的灌浆料从一个方向灌入灌浆部位。必要时可借助竹条或钢钎导流，可适当轻轻敲打模板

一、麻面

现象：灌浆料局部表面现象出现缺浆和许多小凹坑、麻点，形成粗糙面，但无钢筋外露现象。

德阳C50高强抹灰砂浆——工厂##股份有限公司

八分厂、分别位于北京、湖北武汉、江西南昌、甘肃兰州、四川成都、云南昆明、广西南宁、内蒙古呼和浩特，可根据地区就近发货。

钠尤其合用于用作乙酸乙系乳液的阻燃剂，其添加量按1%溶液计，以占聚合物的4%~6%为宜。三氧化二锑本身的阻燃能力并不算高，但当它处在燃烧初期可以天生 的情况下，在氯化石蜡并用，就会施展出优胜的阻燃能力。为了获得优异的防火机能，除添加阻燃剂外，基料的选择也很重要。因为卤素（一般为氯和溴）和磷等元素对防火性效果十分显着，所以选用含有这些元素的基料。，以氯乙或偏二氯乙共聚物乳液或氯化橡胶乳液作为基料 为优胜。

Y) /+N < P V/ 1P、2P、、4P /1P、2P、、4P 、BNG -20/2P-385 < < < /4P < P /+N) N) 5V < < 0V 1P、2P、、4P < 0 < 5V/4P < V 85V/1P < 4P 、2P < 00)385V < < < P/440-2P 8S /1P 60DH3 < C60 0 0 P P P < < 0/8 < < /60kA-F/Pk < V(In:40KA,Imax:80kA) XSF < < / 1P、2P、、4P < P、2P、、4P ) -D P 5V < amp;nbsp;TT20 V < < 0US）/1P V/ 1P、2P、、4P /4 V/4P、、2P、1P /1P、2P、、4P /4P < DH3-A1 < 4+0） 0KA /1P < -A1 < V/1、2、3、4P A/3+1 5V < < < Imax:40KA 4p < < P、、2P、1P < 、2P、1P P < /385V/+N） V /4 V/1、2、3、4P < 5 3B P-385V 4P 、4P-B100 /1P < < < NPE < PE P/I/4P） SP/H/4P） VSP/I/) SP/I/4P） VSP/S/2P） 5V < /1P/2P//4P V < C GY 0V V/1、2、3、4P /1，2，3，4P < 1P,2P,,4P 、2、3、4P < P < 00S < S (AB) 0/2） 100/4） < < P < P,2P,,4P 4P < V/1、2、3、4P 4P < P、2P、、4P V/1P、2P、、4P 0V-4P 40V-4P < /1P < < +N(40KA) V < V 0/4P 5V 5V P-385V A-3 V/1P /4P < /4) B mode < < KA/320V） 0/+N IIY 1P 5V-1P 0V -4P < 4P /4P、、2P、1P P、、2P、1P 5V/4P、、2P、1P /4 5V < 2 3+1 P < MPF < 85 RMP F RMNF < MP F 20/4P/1P < P、1P P、、2P、1P < < 5V 1P /4P、、2P、1P P P < < P..4P < P 385V/4P < < < < 2P、1P 、、2P、1P < V 1P、2P、、4P < < P、2P、、4P < 3 1P 2P 4P -1 /150KA-4P < （三相4+0） < 4P 5 25-D PE /1P < 5V < < < V 3+1)a P +NPE NPE < DPS40-385;DPS40G M < V 10 < +NPE +NPE < D12Y2 < 4V 1P. 2P. . 4P 5 < NF 0kA +NPE < 1P、2P、、4P /1、 2、3、4P P、2P、、4P < 20V(In:100KA,Imax:160KA) 5V < 20V 1P、2P、 、4P V 1P+NPE、+NPE < .2P..4P V/1，2，3，4P F U2 M 3+1） < /50KA < 5 TS /2 < < V