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展来说就是：研究团队从给27nm厚的硅表面涂层“正掺杂”始，然后用电子束光刻生成的纳米沟槽，接着通过干蚀刻来硅纳米薄膜。随后，研究人员取出硅纳米薄膜层，将之挪到另一个有粘合剂塑料涂层的衬底薄膜上。 一步是添加额外的干蚀剂来隔离和定义沟道区域，部署栅极电介质层和金属栅极。虽然听起来工作量很大，但与当前的半导体工艺相比，它算得上是一种相对简单的过程了。事实上，已经有报道称某新型晶体管在以38GHz的破纪录速度下运行，模拟显示其甚至能够在轻微优化后达到11GHz。

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