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通用试剂;催化和无机化学;铝;铝溶胶;有机硅氧聚合物;化工产品- ;化工原料

活性氧化铝球内部的晶型为γ型和χ-ρ型， 按其用途可分为活性氧化铝球吸附剂、活性氧化铝球干燥剂和活性氧化铝球催化剂载体。
COD（ChemicaloxygenDeman是水质监测中必不可少的项目，其含义指在一定条件下用强氧化剂水样时所消耗氧化剂的量，以氧的mg/L来表示，化学需氧量反映了水中受还原性物质污染的程度。在检测分析过程中，水样中Cl-极易被氧化剂氧化，大量的Cl-使得测定结果偏高，高氯低COD废水的测定更是现在面临的一个难题。在实际监测中发现，很多种废水如化工废水、味精废水、海产品废水等Cl-含量都很高，其COD测定需要对Cl-进行屏蔽后进行测定。
活性氧化铝(分子式Al2O(3-x)(OH)2x，0＜x＜0.8)是当前世界上大量使用的无机化工产品之一。由于活性氧化铝具有多孔结构，高比表面积且处于不稳定的过渡态，因而具有较大的活性。在石油化Chemicalbook工、化肥工业中，广泛用作催化剂、催化剂载体。活性氧化铝具有吸附性能、催化活性的多孔性、高分散度、大比表面积，因而用作气体和液体的干燥剂、气体净化的吸附剂、饮水除氟剂、工业污水的颜色和气味消除剂等。


HyunHaKim旧副对比考察了等离子体光催化和五种传统的等离子体反应器(脉冲、介质阻挡、表面放电、填充床以及等离子体催化)降解气相的效果，研究表明等离子体光催化反应器降解效果，能量利用效率和碳平衡均，并且产生的气溶胶 少。目前作为催化剂的N型半导体种类很多，如：TiO：、ZnO、Fe：O，、CdS和WO，等，由于TiO：具有较高的光稳定性、紫外线吸收能力和化学反应活性，且价廉无等优点，因此目前大多采用其为光催化剂的理想半导体材料Ⅲ25。为保证超滤系统的长期稳定运行，需配置反洗系统、化学分散清洗系统（选用）、清洗系统及压缩空气系统。一般情况下，反洗和气擦洗系统对于SFP-N超滤是必需的；通常，还配备一个杀菌剂加系统以控制微生物等繁殖对超滤膜的影响；而分散化学清洗系统则在水质较差时配备。洗系统反洗系统包括反洗水箱、反洗水泵及次 加装置。1反洗水箱超滤反洗用水一般采用超滤产水，故可以不另设单独的反洗水箱，而采用超滤的产水箱。2反洗水泵超滤由于采用频繁的反洗技术，故应单独设置反洗水泵。反洗水泵参数可以按以下选取：流量：膜组件反洗通量可以按1~15L/m2.h，折膜组件流量后乘以单套装置组件数量即可；扬程：一般取1~2mH2O；泵的过流材质应为不锈钢。 加装置为膜组件内细菌滋生，可以单独设置该加装置。加有两种方式：一种是在进水中连续加入1~5ppmNaClO或冲击性加入1~15ppmNaClO，每次持续3~6分钟，每天一次。