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国产场效应管的型号命名方法有两种：种型号命名方法由五部分组成，部分用数字表示电极数目，3表示有3个电极；第二部分用字母表示沟道材料：D是P型硅N沟道，C是N型硅P沟道；第三部分用字母表示管子种类：字母J代表结型场效应管，O代表绝缘栅场效应管；第四部分用数字表示序号。第五部分用字母表示电流档数。，3DO1D表示结型N沟道场效应三极管，3D06C表示绝缘栅型N沟道场效应三极管。第二种命名方法用字母“CS”+“XX#”的形式。


当输入电压突然由+VF变为-VR时Ｐ区存储的电子和Ｎ区存储的空穴不会马上消失，但它们将通过下列两个途径逐渐减少：在反向电场作用下，Ｐ区电子被拉回Ｎ区，Ｎ区空穴被拉回Ｐ区，形成反向漂移电流IR，如下图所示；与多数载流子复合。在这些存储电荷消失之前，ＰＮ结仍处于正向偏置，即势垒区仍然很窄，ＰＮ结的电阻仍很小，与RL相比可以忽略，所以此时反向电流IR=（VR＋VD）/RL。VD表示ＰＮ结两端的正向压降，一般VRVD，即IR＝VR／RL。